国内イベント

2015年9月9日

コモディティ化が進む集積フォトニクス ~日本はどこで勝負するべきか?~

シリコンフォトニクスに続き,III/V系化合物半導体フォトニクスについても,欧州においてファウンドリサービスが本格化に稼働し,multi-project wafer(MPW)による素子作製が一般的になってきました.日本がこれまで得意としてきた光デバイス技術の差別化が難しくなっていくなか,日本の企業・大学・研究機関は何を目指すべきか?
エレクトロニクスと同じ失敗を繰り返さないための戦略は?
第一線でご活躍する専門家をお呼びし,集積フォトニクスが目指すべき
方向を探ります.

お問い合わせ 担当者:中川剛二 gnakagawa@jp.fujitsu.com
開催期間 2015年9月9日
開催場所 東北大学 川内キャンパス
主催 電子情報通信学会 光エレクトロニクス研究会(OPE)
ウェブサイト http://www.toyoag.co.jp/ieice/S_top/s_top.html
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